호아니

-출처 한국ir협의회 작성자 박광현 전문위원 작성기관 한국기업데이터(주)

기술 집약형 산업 -반도체 장비는 전자, 전기, 화학, 광학 등의 기술 집약형 산업이며 반도체 기술 발전으로 반도체 장비의 기술수명이 짧아 지속적이 R&D 토자가 중요 급속한 기술혁신이 요구되는 산업 -반도체 장비산업은 반도체 산업과 마찬가지로 기술발전 속도가 빠르고 그 결과 진화 속도가 빠르며 기술 수명이 짧아, 설비의 평균 기술수명이 3~5년 정도임. 반도체 업계의 성장추이에 종속 -반도체 장비는 사용자의 요구사항에 맞게 생산되는 주문자 생산방식이 대부분으로 주문량에 의해 그 수요가 결정됨. 반도체 장비 발주는 반도체 호황기에 집중되고, Donwcycle에는 급감하여 변동폭이 반도체 및 타 산업 대비 큰 편임 고가의 자본재 산업 -반도체 장비 산업은 장치 위주의 산업으로 고가의 제품이라 품질의 신뢰도..

에싱 플라즈마 장비 배럴형, 하향 흐름형, 화학적 하향 흐름형 건식 시각 플라즈마 장비 반응성 이온 시각, MERIE, 전자 이온 가속기 공진, 변압기 결합형 등 박막 증착 플라즈마 장비 PECVD, f 스퍼터링

반도체 장비의 범위 전공정 : 반도체의 품질을 결정하는 단계로 높은 기술 수준 요구 노광 : 웨이퍼 위에 회로를 그림 식각 : 회로대로 가공 증착 : 특정막을 증착 CMP : 균일하게 연마 세정 : 깨긋하게 만듦 측정분석 : 측정하고 분석 후공정 : 웨이퍼에서 개별칩을 분리하여 조립 및 검사 패키징 : 웨이퍼에 배선 연결과 밀봉 테스트 : 칩의 불량여부 판정 -출처 http://w3.kirs.or.kr/ 8대공정으로 알아보기 https://www.samsungsemiconstory.com/2206?category=779002 -삼성 반도체 이야기

화학기상증착(CVD : Chemical Vapor Deposition) 화학기상증착이란 반도체 제조공정 중 반응기 안에 화학기체들을 주입하여 화학반응에 의해 생성된 화합물을 웨이퍼에 증기 착상시키는 것을 말하며 이 과정에 사용되는 고순도 약액 또는 특수가스를 화학기상증착재료라 한다. 증착법에는 크게 네가지로 분류되는데 상압화학기상증착 (AP CVD : Atmospheric Pressure CVD), 저압 화학기상증착(LP CVD : Low Pressure CVD), 열화학증착 과 플라즈마 화학 증착 (PE-CVD)으로 나눌 수 있다 식각재료(Etchants) 및 세정재료(Cleaning Chemicals) 식각재료는 반도체 제조공정 및 웨이퍼 제조공정은 물론 평판디스플레이 제조공정에서도..